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HY管式爐

定制爐回轉爐回轉管式爐氨分解工業(yè)管式爐 900系列三溫區(qū)管式爐 GLJZ-3-1200多工位旋轉管式爐開啟式立式管式爐1200℃ 開啟式立式管式爐1500℃ 1200℃三聚氯膠管式爐 1600℃三溫區(qū)高溫管式爐 1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐 1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐 1200℃小型開啟式真空管式爐 1400℃三溫區(qū)管式爐 1700℃精密真空氣氛管式爐開啟式管式爐

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1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：2445

1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐以硅鉬棒為發(fā)熱元件；雙層風冷結構；高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型；30段可編智能控制（可外接遠程控制）;加熱區(qū)長度660mm;可通氣氛及抽真空，爐體采用雙層殼體結構，并帶有風冷系統(tǒng)，使得殼體表面的溫度小于60度，爐腔保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維，減少熱量的損失，內爐腔表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。
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1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：2294

1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設計，可在高溫情況下觀察物料反應情況并實現迅速降溫；真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；內置五個加熱溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。
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1200℃小型開啟式真空管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：2288

1200℃小型開啟式真空管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結構，設計合理，外形美觀，結構緊湊；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。
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1400℃三溫區(qū)管式爐

更新時間：2021-03-06

瀏覽量：2236

1400℃三溫區(qū)管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；爐腔采用日本技術真空吸附成型的優(yōu)質1600型氧化鋁多晶體纖維無機材料拼搭結構，長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；內置三個溫區(qū)，可營造不同的溫度梯度。
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1700℃精密真空氣氛管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：2327

1700℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統(tǒng)，一鍵智能化操作，圖文界面操作更便捷；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
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1200開啟式管式爐

更新時間：2020-11-20

瀏覽量：2535

開啟式管式爐在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發(fā)生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉（PECVD）。
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